Das Verfahren erlaubt eine quantitative Volumen- und Dünn- schichtanalyse von metallisch leitenden und nichtleitenden Schichten. An die Probe wird eine negative Spannung angelegt, so daß Ar-lonen aus dem Plasma extrahiert werden und die zu analysierende Probe atomlagenweise abtragen.

Die Nachionisation der abgetragenen Neutralteilchen erfolgt durch die Elektronen des Plasmas. Verantwortlich für die extrem hohe Tiefenauflösung von wenigen Monolagen ist die hohe lonenstromdichte des Plasmas bei niedrigen Beschlußspannungen von 50-1000 Volt. Es sind Erosionsraten von 0,05 nm bis 5 nm pro Sekunde erreichbar. Die Nachweisgrenze liegt für alle Elemente im ppm-Bereich oder darunter.

Abb.: Tiefenauflösung von metallischen Mehrfachschichten